发布时间:2026-01-29
在追求极致显示效果的道路上,Micro LED技术一直被寄予厚【望。它几乎集成了LCD与OLED所有的优点:超高亮度、超大视角、无限对比度、长寿命以及极低的功耗。然而,从实验室的理想模型到真正进入大众视野的商业产品,Micro LED在超微尺寸下仍需突破衬底束缚、巨量转移与成本瓶颈。
2025年,利亚德首发Hi-Micro LED 产品,率先实现Micro LED无衬底技术的突破,更是打破了其从实验室走向量产的核心桎梏,为行业提供了从“能做”到“好用、能用得起”的完整样本。
01 为什么必须是无衬底Hi-Micro LED技术?
传统的LED芯片通常生长在蓝宝石或GaAs衬底上,衬底为LED外延的生长提供了稳定良好的支撑。但在迈向Micro LED阶段,衬底的存在成为了阻碍。
在将Micro LED制备成分立器件的过程中,衬底的切割难度大大提升,尤其是将芯片尺寸缩小至50μm以下时,切割良率大幅降低,传统LED的切割工艺几乎不再适用。因此,亟需去除LED衬底,解除衬底对于LED芯片尺寸微缩的限制,实现更高像素密度的排列。

利亚德Hi-Micro LED(高阶MIP)技术的核心,在于“剥离”与“重构”。
通过激光剥离(LLO)等尖端工艺,阻碍光路和提高切割难度的蓝宝石衬底被去除,形成了无衬底薄膜结构(Thin-film)芯片。这种结构下,LED芯片厚度薄至10μm量级,发光层直接贴合封装界面。这不仅减少了蓝宝石对于出光角度一致性的影响,更让芯片具备了近乎极致的散热性能。

02跨越商业化的“三大关卡”
无衬底技术固然惊艳,但要实现商业化,利亚德必须攻克行业公认的三大难题:巨量转移、良率控制与成本优化。
巨量转移技术的跨越
在Hi-Micro LED的研发初期,如何在每秒钟内精准地将数万颗只有发丝直径几分之一的、无衬底的薄膜芯片转移到驱动电路板上?利亚德放弃了低效的机械抓取,转向了激光驱动巨量转移技术。
Hi-Micro LED技术通过非接触式激光瞬时加热,使无衬底芯片从临时基板上精准“弹射”到目标位置。这种方式不仅回避了物理接触带来的损伤风险,更实现了数百万级像素的高效集成。
在封装形态上延续MIP(Micro LED in Package)思路,便于分bin、混光与大规模贴片,适配0.41.8mm间距的大屏商用场景。

“99.99%”之后的追逐
无衬底芯片因其极薄,极其脆弱。利亚德在Hi-Micro LED生产流程中引入了全自动光学检测(AOI)与全自动在线检测技术,极大地提高了检测效率;同时,搭配全自动人工智能(AI)修复技术,实现了从芯片端到模组端的全链路品质受控,将Micro LED的综合良率推向了商用化的临界点。

成本的“摩尔定律”
商业化的本质是让先进技术变得“可负担”。Hi-Micro LED技术的优势在于:去除衬底后,芯片可以通过高密度的圆片级加工。利亚德通过缩小芯片尺寸(目前已向20μm甚至更小跨越),在同尺寸晶圆上产出更多芯片,结合规模化封装工艺,显著降低了单位像素的成本。

03从降本到商业化:如何把“Hi-Micro LED”做成“生意”
利亚德Hi-Micro LED(高阶MIP)技术的商业化之路,走的是一条“由点及面”的路径。目前,在应用层面,HiMicro LED已覆盖:
高端商显与指挥调度:P0.4P1.8系列满足会议室、控制室等超高清与高可靠需求;
电影放映:P0.9 Micro LED电影屏通过DCI认证,推动LED电影屏从“概念”走向标准产品;
家庭与巨幕一体机:推动Micro LED向家庭影院、家用超大屏渗透;
新兴场景:AR眼镜、透明屏与车载窗玻璃显示等前瞻探索,其中透明Micro LED与车窗结合尚处实验室阶段,为未来车载埋下伏笔。
此外,利亚德与中国科学院空间中心联合研发的光通信(LiFi)技术取得关键突破,开启场景化应用新篇章,提升在重要场所、高速移动平台、低空经济、工业4.0、智能家居等各类应用场景下的通信保障服务能力。

对于利亚德而言,Hi-Micro LED 不仅仅是一项显示技术,它更是对显示产业供应链的一次重塑。当衬底消失,显示的本质——“光”便得到了前所未有的自由。利亚德正站在这场自由革命的暴风眼,通过Hi-Micro LED,将人类带入一个视界无界、想象无垠的新时代。

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